溅镀靶材是在电子基板上以原子水平附着合金或金属氧化物等物质、形成薄膜的电子材料。其中，黑化膜用溅镀靶材是在有机EL或液晶面板上成膜使配线黑化，降低TFT配线的可见光反射率(低反射化)而使用的。溅镀靶材具有以下优点和效果，与以往产品相比，有助于提高各种显示器高精细化程度和设计自由度，以及降低半导体相关产品等配线反射光引起的噪音。
铝靶材优点和效果：
(1)铝靶在配线上成膜后能够实现可见光的低反射化
与以往产品相比，能够实现低反射化。
(2)不需要反应性气体，能够进行DC溅镀
与以往产品相比，有助于实现大型基板的膜的均质性。
(3)成膜后，能够与配线一起进行蚀刻加工
根据客户的现有蚀刻工序调整材料，不变更现有工序，能够与配线一起进行蚀刻。另外，本公司也会结合客户的溅镀条件提供支持。
(4)耐热性优异，且耐水、耐碱
除耐水、耐碱外，还具有高耐热性，所以在TFT配线加工工序中，膜的特性不会发生变化。
