真空镀膜，是指在真空中把蒸腾源加热蒸腾或用加快离子轰击溅射，沉积到基片外表构成单层或多层薄膜。关于真空镀膜的原理都有哪些知识?下面北京J9.COM的小编就为大家介绍一下。
1.真空蒸腾镀膜
蒸腾镀膜，要求从蒸腾源出来的蒸汽分子或原子，到达被镀膜基片的距离要小于镀膜室内剩余气体分子的平均自由程，这样才能保证蒸腾物的蒸汽分子能无碰撞地到达基片外表。保证薄膜纯净和结实，蒸腾物也不至于氧化。
2.真空溅射镀膜
在真空中，被加快的离子碰撞固体时，一方面使晶体遭到损伤，另一方面与构成晶体的原子相互碰撞，最终使固体外表的原子或分子向外部溅射，溅射物质镀到基片上构成薄膜，称为真空溅射镀膜。溅射方法许多，其中使用最早的是二极溅射，根据阴极靶材不同，分为直流(DC)和高频(RF)两种。用一个离子冲击靶外表所溅射出来的原子数称为溅射率。溅射率大，膜层生成速度就快。溅射率与离子的能量、品种、以及靶资料的品种有关。一般地说，溅射率随人射离子能量的增大而增大，贵重金属溅射率较高。
