随着网络时代的发展，现在人们对电子产品的依赖性越来越大，电子产品在寻常百姓家随处可见，人们的日常生活都不能离开电子产品了，那么溅射靶材在电子产品中会有哪些应用呢?北京J9.COM的小编一起带大家来学习一下。
电子产品在各行各业中都有所应用，而这些电子产品大部分都要求进行镀膜后才投入到市场之中，现在常用的真空镀膜设备是磁控溅射真空镀膜机，在这里，咱们来看一下在溅射中所运用的靶材。一般咱们运用的靶材不外乎三种类型：金属靶材、合金靶材、化合物靶材。
硬盘使用的靶材有许多，在记录面上镀上多层的薄膜，每层薄膜有各自的作用，在最底层，会镀上40nm厚的铬或者铬合金，增强结合力和抗腐蚀性能，中间再镀上15nm厚的钴铬合金，再镀上35nm厚的钴合金，作为磁性材料，这种材料可以充分体现磁性和低干扰的特性，最终再镀上15nm厚的碳薄膜。
磁头的溅射靶材常用的是铁镍合金，后来又增加了一些新的化合物材料，像氮化铁、氮化铁钽，氮化铁铝等，这些都是优质的磁介质膜层靶材。
CD碟片会用上铝膜作为反射层镀在塑料的工件上，但关于CDROM和DVDROM这些碟片，就不能运用铝膜了，因为在这些碟片上会有一层染料层，上面的物质关于铝而言具有一定的腐蚀性，一般会由金膜或银膜替代。 光碟的膜层也是多层组成的，它在记录层上镀上30nm厚的铁钴合金，里面混有非晶态稀土过渡元素，再镀上20到100nm厚的氮化硅介质层，最终镀上铝膜反射层。
这样得到的产品，能够记录数据，要完成这些功能，还是要靠各种不同物质所溅射而成的薄膜，靠其成膜后显示出来的性能来完成。
