大家都知道溅射靶材的规格有许多，而且使用领域也很广泛，不同行业常用的靶材品种也有所不同，今天咱们就来和北京J9.COM的小编一起学习一下溅射靶材行业分类的相关知识介绍!
一、溅射靶材的定义
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
二、溅射靶材应用领域分类
1、半导体用靶材
(1)常用靶材：该领域常用的靶材包含钽/铜/钛/铝/金/镍等高熔点金属。
(2)用处：主要用于集成电路的要害原资料。
(3)功能要求：关于纯度、尺寸、集成度等的技能要求较高。
2、平面显示器用靶材
(1)常用靶材：该领域常用的靶材有铝/铜/钼/镍/铌/硅/铬等。
(2)用处：这类靶材多用于电视、笔记本的各型大面积膜层。
(3)功能要求：关于纯度、大面积、均匀性等要求较高。
3、太阳能电池用靶材
(1)常用靶材：太阳能电池常用铝/铜/钼/铬/ITO/Ta等靶材。
(2)用处：首要用于“窗口层”、阻挡层、电极与导电膜等场合。
(3)功能要求：技能要求高，使用范围比较广。
4、信息存储用靶材
(1)常用靶材：信息存储常用钴/镍/铁合金/铬/碲/硒等材料的靶材。
(2)用处：这儿的靶材主要用于光驱与光盘的磁头、中间层、底层。
(3)功能要求：关于高储存密度、高传输速度的要求较高。
5、工具改性用靶材
(1)常用靶材：工具改性常用钛/锆/格/铬铝合金等靶材。
(2)用处：通常做外表强化用。
(3)功能要求：功能要求较高，使用寿命长。
6、电子器件用靶材
(1)常用靶材：电子器件常用铝合金/硅化物靶材
(2)用处：一般用于薄膜电阻与电容。
(3)功能要求：尺寸小、稳定性、电阻温度系数小。
