靶材便是高速荷能粒子轰击的方针资料。金属靶材般是由高纯金属制成。高纯铝靶材便是工业上常用的耙材中的种。关于金属靶材，般要求表面需求数控加工，越光滑越好。溅镀后的模压盘片可以在播放器上读出，为确保读出信号的强度，需求溅镀金属层的反射率到达80%。
靶材主要应用在ITO导电玻璃、DWDM(高密度多工分配器)、CD-R、CD-RW、DVD、EMI(抗电磁波干扰)、OLED、磁性资料、感测元件、压电资料、硬化膜、高温超导等产品上。靶材主要有金属类、合金类、氧化物类等等。
现在，只有中、美、日本、德和法等少数家具备制造溅射靶材的技能。因而在球范围内靶格行业还在处于种垄断性十分强的时期。
近年来我电子信息工业飞速开展,集成电路、光盘及显示器出产线均有很多合资或资企业呈现,我已逐步成为了世界上膜靶材的大需求区域之。但迄今为止, 日本和德是世界上从事靶材出产的先进家，中很多高功能靶材仍从外进口。由于内靶材工业的滞后开展,现在中靶材商场很大部分被外公司占。跟着微电子等高科技工业的高速开展,中的靶材商场将日益扩展,为中靶材制造业的开展提供了机会和挑战。
靶材的技能开展趋势与下游应用工业的膜技能开展趋势休戚相关，跟着应用工业在膜产品或元件上的技能改进，靶材技能也应随之改变。
现在，高的靶材朝超大尺度方向开展，主要有以下两个原因：
(1)由于次溅射镀膜进程所出产的器材数量，与靶材的尺度成平方联系。因而，靶材愈大，器材出产的成本越低，产品竞争力越强。这是电子、平板显示器、太阳能电池板出产企业不断追求的方针。
(2)由于单个平板显示器、太阳能电池板等面积越来越大，需求的靶材尺度也越大，才能满足膜功能的均匀致性。由于靶材尺度越来越大，对靶材的出产设备、制备技能、靶材结构、及靶材功能要求也越来越高。如要求靶材的密度更高，成份更纯、结构均匀性更好等,资金投入也更大。
由于溅射镀膜的进程中，致密度较小的溅射靶受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体忽然释放，造成大尺度的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅。这些微粒的呈现会下降器材中膜质量。如在VLSI制造工艺进程中，每150mm 直径硅片所能答应的微粒数有必要小于30 个。
因而大尺度靶材的密度要求更高。一起，靶材溅射时，靶材中的原子容易沿着密排面方向择优溅射出来，资料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。因而，关于大尺度靶材，取得安排结构细腻、均匀性好的靶材结构对解决上述问题至关重要。但要在大尺度靶材中取得这样优良安排结构，存在较大的难度，需求对以往的出产制备设备和技能进行改进。因而，超大尺度靶材的出产施行，关于进步我的靶材制备水平，进步器材的质量和竞争力至关重要。
