铜靶材现在广泛应用于电子、通信、超导、航天等领域,而且铜靶材价格低廉,使得其成为真空镀膜职业中的主力军。由于真空镀膜职业的限制,对铜靶材的尺度和形状要求严格,因此必须严格把关铜靶材出产工艺,下面就由北京J9.COM小编为您介绍一下铜靶材生产技术。
一、铜靶材加工方法
1、铸造法
将必定成分配比的合金质料熔炼,再将合金溶液浇注于模具中,构成铸锭,经机械加工制成靶材,铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子炮击熔炼等,其长处是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量)低,密度高,可大型化;缺陷是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属,一般熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。
2、粉末冶金法
将必定成分配比的合金质料熔炼,浇注成铸锭后再破坏,将破坏构成的粉末经等静压成形,再高温烧结,终构成靶材,其长处是靶材成分均匀。缺陷是密度低,杂质含量高等,常用的粉末冶金工艺包含冷压、真空热压和热等静压等。
二、铜靶材加工注意事项
1、铜矿石的分类
炼铜的质料是铜矿石,铜矿石可分为三类。一是硫化矿如黄铜矿、斑铜矿和辉铜矿等。二是氧化矿如赤铜矿、孔雀石、硅孔雀石等。三是自然铜,铜矿石中铜的含量在1%左右的便有开采价值,选用浮选法能够把矿石中部分脉石等杂质除掉,而得到含铜量较高的精矿砂。
2、粗铜的提纯
粗铜再通过火法精粹或电解精粹而得到精铜。粗铜火度法精粹,直接出产含铜99.5%以粗铜火法精粹,直接出产含铜99.5%以上的精铜。该法仅适问用于金、银和杂质含量较低的粗铜,所产精铜仅用于对纯度要求不高的场答合。粗铜先通过火法精粹除掉部分杂质,浇粗铜先通过火法精粹除掉部分杂质,铸成阳极,再进行电解精粹,产出含铜99.95%以上,杂质含量到达标准的精铜属。
3、高纯度铜材要求
对变形处理后的高纯度铜资料进行机械加工,铜靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺度就能够了,铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。有了高纯度铜锭作为原资料,对原资料进行锻造、轧制、热处理等,使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满意溅射所需铜靶材的要求。